物體是由原子和分子構(gòu)成的，原子由原子核(帶正電荷)和電子(帶負電荷)構(gòu)成，電荷在物體內(nèi)向一個方向移動就構(gòu)成電流。
盡管物體內(nèi)部存在著很多電荷，但并不是一切電荷都能自在移動。金屬原子只要一部分外層電子受原子核的吸引力比較弱，而變成能夠在金屬中自有運動的自在電子。金屬中的電流即是這些自在電子的定向移動構(gòu)成的。
要在導(dǎo)體內(nèi)發(fā)生電流，只存在自在電子還不可，還得有必定的外界條件。要使導(dǎo)體中有繼續(xù)電流流過，導(dǎo)體兩頭有必要堅持必定的電位差(通常由電源來供給保證)，電位差通常稱為電壓。
他們的物理聯(lián)系是：自在電子的存在是構(gòu)成電流的內(nèi)因，電壓是構(gòu)成電流的外因。
超聲波清潔機的電流與電壓經(jīng)過共同規(guī)劃，才干得到超聲波，然后對物體進行清潔。超聲波清潔機也即是，頻率低，空化越簡單發(fā)生，而且在低頻情況下液體遭到的緊縮和**作用有更長的時刻距離，使氣泡在潰散前能生長到較大的尺寸，增高空化強度，有利于清潔作用。
所以低頻超聲清潔適用于大部件外表或者污物和清潔件外表結(jié)合度高的場合。但易腐蝕清潔件外表，不適宜清潔外表光潔度高的部件，而且空化噪音大。40KHZ擺布的頻率，在相同聲強下，發(fā)生的空化泡數(shù)量比頻率為20KHZ時多，穿透力較強，宜清潔外表形狀雜亂或有盲孔的工件，空化噪音較小，但空化強度較低，適宜清潔污物與被清潔件外表結(jié)合力較弱的場合。高頻超聲清潔適用于計算機，微電子元件的精密清潔;兆赫超聲清潔適用于集成電路芯片、硅片及波薄膜的清潔，能去除微米、亞微米級的污物而對清潔件沒有任何損害。
因此從清潔作用及經(jīng)濟性思考，頻率通常挑選在20—130KHZ規(guī)模，當然準確挑選頻率**關(guān)重要，而具體適宜的工作頻率的選擇需要做必定的試驗獲得。
